بررسی و تحلیل رفتاری لایه برداری سطحی ناهمسانگرد سیلیکون در محلول TMAH
Authors
Abstract:
این مقاله به بررسی و تحلیل رفتاری لایه برداری سطحی ناهمسانگرد سیلیکون (100) در هیدروکسید آمونیم تترامتیل(TMAH) پرداخته است. فرآیند حکاکی در محلول TMAH با غلظتهای مختلف 5%، 10%، 15% و 25% و در دماهای مختلف oC 70، oC 80 و oC90 انجام شد. نتایج نشان میدهد که نرخ زدایش با افزایش دما، افزایش مییابد ولی این نرخ با افزایش غلظت TMAH در غلظتهای بیشتر از 10% کاهش مییابد. بیشترین نرخ زدایش برابر با µm/h62 در غلظت10% و دمای oC 90 است. تصاویر SEM نشان میدهد که در سطح سیلیکون برآمدگیهای شبیه به تپههای هرمی شکل کوچک ظاهر میشود که تعداد، شکل و نحوه توزیع آنها در روی سطح سیلیکون کاملا تصادفی است. تعداد ناهمواری با افزایش غلظت TMAH کاهش مییابد و سطح سیلیکون حکاکی شده در TMAH با غلظتهای بالا، صافتر میباشد. درضمن بیشترین مقدار نرخ زدایش در صفحه نسبت به صفحه برای TMAH با غلظت10% به دست آمده است که مقدار آن 6/10 است. زدایش سیلیکون با TMAH در این غلظت کمترین زیربریدگی را دارد.
similar resources
بررسی و تحلیل رفتاری لایه برداری سطحی ناهمسان گرد سیلیکون در محلول tmah
این مقاله به بررسی و تحلیل رفتاری لایه برداری سطحی ناهمسانگرد سیلیکون (100) در هیدروکسید آمونیم تترامتیل(tmah) پرداخته است. فرآیند حکاکی در محلول tmah با غلظتهای مختلف 5%، 10%، 15% و 25% و در دماهای مختلف oc 70، oc 80 و oc90 انجام شد. نتایج نشان میدهد که نرخ زدایش با افزایش دما، افزایش مییابد ولی این نرخ با افزایش غلظت tmah در غلظتهای بیشتر از 10% کاهش مییابد. بیشترین نرخ زدایش برابر با ...
full textروش اجزای مجزای سهبعدی در تحلیل ظرفیت باربری پیهای سطحی بر روی خاکهای لایه لایه
در تحقیق حاضر، روش محاسبه ظرفیت باربری پی های سطحی به روش المانهای مجزای سه بعدی، ارائه شده توسط مجیدی، برای خاکهای لایه لایه (غیر همگن) و همین طور در حضور آب زیرزمینی گسترش داده شده و نتایج با روشها و تحقیقات صورت گرفته در این زمینه مورد مقایسه قرار گرفته است. در تحقیق حاضر برنامه کامپیوتری نوشته شده قادر است برای حالات مختلف خاک لایه لایه با پارامترهای مقاومت برشی مختلف و همین طور خاکهای...
full textTMAH/IPA anisotropic etching characteristics
The main advantage of tetramethyl ammnium hydroxide (TMAH)-based solutions is their full compatibility with IC technologies. In this work a new etching system of TMAH/IPA (isopropyl alcohol) is suggested. The influence of the addition of IPA to TMAH solutions on their etching characteristics is presented. The etch rates of (100) oriented silicon crystal planes decreases linearly with decreasing...
full textDegenerate Four Wave Mixing in Photonic Crystal Fibers
In this study, Four Wave Mixing (FWM) characteristics in photonic crystal fibers are investigated. The effect of channel spacing, phase mismatching, and fiber length on FWM efficiency have been studied. The variation of idler frequency which obtained by this technique with pumping and signal wavelengths has been discussed. The effect of fiber dispersion has been taken into account; we obtain th...
full textMy Resources
Journal title
volume 9 issue 3
pages 133- 144
publication date 2015-11-22
By following a journal you will be notified via email when a new issue of this journal is published.
Hosted on Doprax cloud platform doprax.com
copyright © 2015-2023